光刻机行业报告( 124 页)

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目录

第一部分：半导体工艺及光刻简介

1.1 晶圆制造及光刻工艺流程

1.2 光刻机在晶圆制造中的重要地位

1.3 光刻机的分类及发展历史

1.4 光刻工艺的关键技术指标

第二部分：光刻机及其子系统工作原理

2.1 光刻机整体架构

2.2 光源系统：工艺能力的首要决定因素

2.3 光路系统与镜头：光刻机核心部件之一

2.4 双工件台系统：双台交替配合，大幅提升设备产能

2.5 光刻机测量系统：晶圆精确曝光的前提

2.6 光刻机聚焦系统：实现晶圆表面Z方向的精确曝光

2.7 光刻对准系统：保证曝光后图形之间的准确套刻 

2.8 框架/减振/环境控制系统：维持光刻机的整体稳定

2.9 传输系统：精确衔接光刻机运行工序

第三部分：光刻机竞争格局与行业发展趋势

3.1 竞争格局：一超双强格局稳定，ASML一枝独秀

3.2 行业有望企稳回升，在手订单状况良好

3.3 创新驱动芯片需求

3.4 先进制程驱动成长

第四部分：他山之石——ASML光刻巨头崛起之路

4.1 ASML公司概况

4.2  推动光刻领域技术演进，EUV全球独供无出其右

4.3 技术+供应链与生态+资金，重重壁垒筑高墙

第五部分：投资建议及国产光刻机供应链相关公司

5.1 上海微电子：国产光刻机制造之光

5.2 华卓精科：突破性光刻机双工作台供应商

5.3 科益虹源：半导体光源系统供应商

5.4 苏大维格：微纳光刻行业先锋，光刻机用光栅部件供应商

5.5 晶方科技：收购ASML核心供应商之一

5.6 新莱应材：半导体管阀等核心零部件供应商 

5.7 腾景科技：精密光学器件核心技术掌握者

5.8 茂莱光学：国内领先精密光学解决方案供应商 

5.9 炬光科技：高功率半导体激光产业领军者

5.10 福晶科技：光电行业发展的有力推动者

5.11 福光股份：光学镜头制造佼佼者

5.12 美埃科技：高端设备洁净环境创造者

5.13 清溢光电：掩膜版国内领先企业 

5.14 路维光电：国内稀缺可覆盖G2.5-G11全世代掩膜版生产能力的供应商

5.15 芯碁微装：国内直写光刻设备领军企业  

第六部分：风险提示