半导体薄膜沉积设备发展分析报告( 23 页)

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目 录

1. 薄膜沉积是半导体工艺三大核心步骤之一.... 5

2. 多因素驱动国产薄膜沉积设备需求....... 7

3. 国内厂商错位发展，共同受益国产化率提升..... 9

4. 投资建议....... 12

风险提示...... 19

附录：薄膜沉积技术介绍..... 20

图表目录

图1：硅片制造工艺流程......5

图2：全球半导体设备及薄膜沉积市场规模（亿美元） ....5

图3：晶圆制造设备投资占比.......5

图4：薄膜沉积技术分类......6

图5：全球薄膜沉积设备市场结构-2020 .......6

图6：全球CVD 市场结构-2020 .......6

图7：国内晶圆制造环节扩产规划整理.....7

图8： CVD 工艺演变历程....8

图9： CVD 技术对比.......8

图10：逻辑芯片复杂度提升增加薄膜沉积工序数量.....8

图11：制程升级带动薄膜沉积设备需求数倍增长.....8

图12： 3D NAND 带动薄膜沉积工艺步骤增加.....9

图13： 3D NAND 堆叠层数增加催生薄膜沉积设备需求......9

图14：长江存储持续取得突破，带动国产薄膜沉积设备需求.......9

图15：全球薄膜沉积细分领域市场格局-2019 ....10

图16：国内主要晶圆制造产线设备招标统计（2020 年1 月1 日至2022 年02 月13 日）.....10

图17：国内主要薄膜沉积厂商产品对比..... 11

图18： PECVD 为拓荆科技主要收入来源（单位：百万元） .....12

图19：拓荆科技研发持续高投入....12

图20：拓荆科技PECVD 设备一览....13

图21：拓荆科技ALD 设备一览......13

图22：拓荆科技SACVD 设备一览....14

图23：北方华创产品与应用分类....14

图24：北方华创营收持续快速增长....15

图25：北方华创研发持续高投入....15

图26：北方华创PVD 沉积设备分类......15

图27：北方华创CVD、ALD 沉积设备分类....16

图28：中微公司营业收入快速增长....17

图29：中微公司研发持续高投入....17

图30：中微公司MOCVD 设备一览.......18

图31：中微Prismo UniMax® MOCVD 设备......19

图32： CVD 传输和反应步骤图.....20

图33： LPCVD 反应流程图.......21

图34：等离子体辅助CVD 中膜的形成......21

图35： PECVD 反应系统流程图 .... 21

图36：各类CVD 反应技术及主要特点 ...... 21

图37： ALD 技术反应原理 ..... 22

图38：溅射技术反应原理图 ....... 22

图39： PVD、CVD 及 ALD 成膜效果简示 ..... 22

图40： CVD 和 PVD 技术对比 ...... 23